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    超純水系統在痕量分析中的應用
    作者:鑫聯雙益 來源:原創 日期:2018/5/13 21:59:06

    在痕量分析中,超純水系統所制備的超純水質量對分析結果起著舉足輕重的影響。

    20世紀50年代初期,電子學中半導體材料崛起,觀察到半導體的電性能與雜質含量有關。由于重金屬雜質具有電活性,嚴重降低單晶硅中載流子壽命,所以其含量需在1ng/g0.1ng/g以下,測定雜質含量在10-6%10-8%或更低。半導體材料使人們認識到痕量元素在超純材料中的重要性,從而開辟了痕量分析的新時代。

    在進行痕量分析時,為了達到最好的量化指標,兩個參數至關重要:實驗的環境以及稀釋標準液和洗滌玻璃器皿的超純水。目前,最常使用的超純水機在生產超純水過程中,電阻率測量以及可溶性硅、硼是評價樹脂效率最關鍵的參數。

    用于痕量分析用水的超純水機包含一系列純化系統,主要由預處理單元、RO反滲透單元以及后置純化單元組成。和泰超純水機以自來水為進水水源,每小時的產水達到15升,且產出的超純水指標為:電阻率為18.2MΩ.cm@25℃ ;TOC<3ppb;重金屬離子<0.1ppb;微生物/細菌<1CFU/ml;熱源/內毒素<0.001EU/ml;顆粒物(>0.22um)<1/ml,其產出的超純水系統適用于痕量分析之中。

    超純水機能夠有效的去除水中的硼、硅離子在內的所有粒子,顯示出了較高的離子截留率和穩定性。在最后的水純化單元,超純水機通過使用特殊設計的硼去除純化柱可以降低早期的硼穿透現象。這些技術的結合保證達到適合于ppt級、次ppt級痕量分析對超純水機生產的超純水的要求。

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